繞過EUV光刻機造出2nm晶片！ASML萬萬沒想到，制裁來得如此之快

這時候，ASML的CEO可能開始後悔當初不多點分享了。佳能發布了一款名為FPA-1200NZ2C的NIL半導體製造設備，可以製造出最小線寬為14nm的圖案，相當於5nm工藝。更有甚者，在改進掩模之後，將可以製造2nm晶片！這就好比你的老闆突然說：「恭喜你，你加薪了，薪水是原來的一半！」是不是感覺非常的「興奮」呢？